'K-반도체가 글로벌 기술 이끈다'…SK하이닉스, 현존 최고층 238단 4D 낸드 개발
'K-반도체가 글로벌 기술 이끈다'…SK하이닉스, 현존 최고층 238단 4D 낸드 개발
  • 김문구 기자
  • 승인 2022.08.03 11:47
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원가·성능·품질 측면서 글로벌 톱클래스 경쟁력 확보…내년 상반기 양산
SK하이닉스 최정달 부사장(NAND개발담당)이 3일(한국시간) 미국 캘리포니아 주 산타클라라에서 열린 ‘FMS 2022’ 개막식에서 기조연설을 하고 있다.
SK하이닉스 최정달 부사장(NAND개발담당)이 3일(한국시간) 미국 캘리포니아 주 산타클라라에서 열린 ‘FMS 2022’ 개막식에서 기조연설을 하고 있다.

[아이티비즈 김문구 기자] SK하이닉스가 현존 최고층 238단 낸드 개발에 성공했다고 3일 발표했다. 

SK하이닉스는 최근 238단 512기가비트(Gb) TLC(Triple Level Cell) 4D 낸드플래시 샘플을 고객에게 출시했고, 내년 상반기 양산에 들어간다는 계획이다.

SK하이닉스는 “2020년 12월 176단 낸드를 개발한 지 1년 7개월 만에 차세대 기술개발에 성공했다”며 “특히 이번 238단 낸드는 최고층이면서도 세계에서 가장 작은 크기의 제품으로 구현됐다는 데 의미를 둔다”고 밝혔다. 

낸드플래시는 한 개의 셀(Cell)에 몇 개의 정보(비트 단위)를 저장하느냐에 따라 SLC(Single Level Cell, 1개)-MLC(Multi Level Cell, 2개)-TLC(Triple Level Cell, 3개)-QLC(Quadruple Level Cell, 4개)-PLC(Penta Level Cell, 5개) 등으로 규격이 나뉜다. 정보 저장량이 늘어날수록 같은 면적에 더 많은 데이터를 저장할 수 있다.

SK하이닉스는 3일 미국 산타클라라에서 개막한 ‘플래시 메모리 서밋(Flash Memory Summit, FMS) 2022’에서 신제품을 공개했다. 행사 기조연설에 나선 SK하이닉스 최정달 부사장(NAND개발담당)은 “당사는 4D 낸드 기술력을 바탕으로 개발한 238단을 통해 원가, 성능, 품질 측면에서 글로벌 톱클래스 경쟁력을 확보했다”며 “앞으로도 기술 한계를 돌파하기 위해 혁신을 거듭해 나갈 것”이라고 강조했다. 

SK하이닉스는 2018년 개발한 낸드 96단부터 기존 3D를 넘어선 4D 제품을 선보여왔다. 4차원 구조로 칩이 구현되는 4D를 만들기 위해 이 회사 기술진은 CTF(Charge Trap Flash)와 PUC(Peri Under Cell) 기술을 적용했다. 4D는 3D 대비 단위당 셀 면적이 줄어들면서도 생산효율은 높아지는 장점을 가진다. 


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