청핑창 어플라이드머티어리얼즈 박사, 2016 IEEE 석학회원 선정
청핑창 어플라이드머티어리얼즈 박사, 2016 IEEE 석학회원 선정
  • 박채균 기자
  • 승인 2015.12.16 19:11
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CMOS 스케일링 주요 분야 중 2개 영역에서 큰 기술적 공헌 인정 받아

[아이티비즈] 어플라이드머티어리얼즈는 자사의 대외산학협력 연구를 담당하는 청핑창(Chorng-Ping Chang) 박사가 집적회로(IC)의 제조에 지대한 영향을 끼친 ‘CMOS 기술에서의 대체 게이트 공정과 STI(Shallow Trench Isolation) 공정’에 관한 공헌을 인정받아 2016년 국제전기전자공학회(IEEE) 석학회원(Fellow)으로 선정됐다고 밝혔다.

▲ 청핑창 박사

IEEE는 전기∙전자∙컴퓨터∙통신 분야에서 175개국 40만 명의 회원을 보유한 세계 최대 규모 학술단체이다. IEEE 회원의 최고 등급인 석학회원은 400여 명으로, 탁월한 연구개발 업적을 통해 기술발전에 크게 기여한 회원을 대상으로 수여한다. 매년 회원수의 0.1%만이 석학회원의 영예를 안는다.

어플라이드머티어리얼즈의 옴 날라마수(Om Nalamasu)수석부사장 겸 최고기술경영자(CTO)는 “창 박사는 일반 반도체 제조공정에서 CMOS스케일링 기술에서 새로운 기술을 채택하는 것뿐만 아니라, 전자기기의 성능과 기능성에도 큰 기여를 했다.”고 말했다. 또한 “대학들과 컨소시엄을 구성해 협력을 이끈 노력과 석학회원으로 선정된 명예에 대해서도 자랑스럽게 생각한다.”고 덧붙였다.

창 박사 연구팀은 게이트퍼스트(gate first) 공정에서 게이트라스트(gate last) 공정으로의 변화, 즉 대체게이트 공정을 이루어냈다. 오늘날 3차원 트랜지스터 구조인 핀펫(FinFET) 공정을 포함한 거의 모든 최첨단 CMOS 논리회로들이 대체게이트 공정을 적용하고 있다.

창 박사는 12년간 국제전기전자공학회 전자소자 (IEEE Electron Device Letters)의 편집장을 맡으며 학회 발전에 기여했다. 집적회로(IC)에 대한 국제기술회의의 프로그램 위원회 멤버로 활동하기도 했으며, 현재 국제반도체기술로드맵(ITRS)에서 프로세스, 통합, 장치 및 구조 지부의 미국 의장을 맡고 있다. 창 박사는 국립칭화대학에서 학사, 미국 캘리포니아 버클리대에서 공학 박사학위를 취득했다.


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